昆明含锗废料回收,稀贵金属回收
2026-01-31 10:59:01 84次浏览
价 格:面议
定义与分类:锗锭是一种以锗为主要成分的金属锭。常见的有区熔锗锭,是指用区熔方法提纯得到的锗锭,合格产品纯度在 99.9999% 以上。
物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
首饰厂:抛光打磨粉,地毯,洗手池等废料;
印刷厂:印刷废菲林、X光片、定影水;
化工石油厂:钯,铂,铑,钌催化剂等。
小金属:粗铟,精铟,铟靶材,粗稼,金属镓99.99以及废料。高价回收镍片,铣刀, 数控刀片, 轻质数控刀,废合金针,针尖,铟.铟丝.氧化铟.
高价回收镍片,镍泥,镍催化剂,含镍物料,铣刀, 数控刀片, 轻质数控刀,废合金针,针尖,高价 回收 ( 钽 ) 钽丝 钽粉 钽电容 钽铌 钽钨 ,铟.铟丝.氧化铟.金.金属锗.锗锭99.999等.
不管形态如何,含量高低,数量多少,均可回收提炼。现金交易,免费提供技术咨询服务,并严格为客户保密,中介高佣。多年来我们一直秉着互利双赢诚信经营,共创价值的原则。欢迎新老客户来电咨询洽谈!
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银珠的保存方法:(1)避免接触化学物质银珠应避免接触含有化学物质的物品,如香水、洗洁剂等,以防止表面受到腐蚀。在使用化妆品或进行其他可能接触化学物质的活动时,建议将银珠取下妥善保存。(2)定期清洁保养定期使用专业的银饰清洁剂或温和的洗涤剂清
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物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
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物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
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市场价格:锗锭的市场价格长期维持在较高水平,不同纯度等级的锗锭价格差异显著,高纯锗锭的回收价格处于每公斤上万元区间。移动速度过慢的影响杂质偏析充分,但生产效率低:慢速移动时,熔区与固相锗的接触时间长,杂质在固 - 液两相的分配能充分达到平衡
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后处理冷却与脱模:区熔结束后,以 2~5℃/min 速率分段降温,500℃以下慢速冷却,防止内应力开裂,冷却后取出锗锭。切头切尾:切除含高浓度杂质的尾料与籽晶部分,保留中间高纯段。检测分级:通过电阻率测试、ICP-MS 分析杂质含量,按纯度
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生产方法:真空熔炼法和电化学还原法是当前工业领域生产锗锭应用最广泛的两种核心方法。真空熔炼法是在密闭的高温炉体内,利用真空环境促进低沸点杂质挥发,实现锗的提纯;电化学还原法则是以含锗溶液为原料,通过通入电流使锗离子在阴极析出金属锗。区熔提纯
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物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
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资源分布与产量:锗在地壳中含量极其稀少,且多伴生于铅锌矿、煤矿等矿石中。中国是世界上的精制锗生产国,在全世界每年生产的 150 公吨金属中约占 70%,其他主要生产国包括俄罗斯和加拿大。适宜的移动速度范围区熔锗锭的熔区移动速度通常控制在 1
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市场价格:锗锭的市场价格长期维持在较高水平,不同纯度等级的锗锭价格差异显著,高纯锗锭的回收价格处于每公斤上万元区间。后处理冷却与脱模:区熔结束后,以 2~5℃/min 速率分段降温,500℃以下慢速冷却,防止内应力开裂,冷却后取出锗锭。切头
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锗锭的核心分类与差异除了之前重点介绍的区熔锗锭,工业中常见的锗锭还包括以下类型,核心差异集中在提纯工艺、纯度与用途:类型提纯方法纯度范围关键特点主要应用区熔锗锭(FZ-Ge)水平 / 垂直区熔法6N~9N(99.9999
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定义与分类:锗锭是一种以锗为主要成分的金属锭。常见的有区熔锗锭,是指用区熔方法提纯得到的锗锭,合格产品纯度在 99.9999% 以上。生产方法:真空熔炼法和电化学还原法是当前工业领域生产锗锭应用最广泛的两种核心方法。真空熔炼法是在密闭的高温
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物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
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物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
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应用领域:主要用于生产锗颗粒、粉末、合金等。同时,它也是制造锗单晶的原料,还可用于掺锗光纤、氯化锗、红外和特种光学镜片、二级晶体管以及各类含锗化合物靶材等的生产。资源分布与产量:锗在地壳中含量极其稀少,且多伴生于铅锌矿、煤矿等矿石中。中国是
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生产方法:真空熔炼法和电化学还原法是当前工业领域生产锗锭应用最广泛的两种核心方法。真空熔炼法是在密闭的高温炉体内,利用真空环境促进低沸点杂质挥发,实现锗的提纯;电化学还原法则是以含锗溶液为原料,通过通入电流使锗离子在阴极析出金属锗。适宜的移
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生产方法:真空熔炼法和电化学还原法是当前工业领域生产锗锭应用最广泛的两种核心方法。真空熔炼法是在密闭的高温炉体内,利用真空环境促进低沸点杂质挥发,实现锗的提纯;电化学还原法则是以含锗溶液为原料,通过通入电流使锗离子在阴极析出金属锗。资源分布
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资源分布与产量:锗在地壳中含量极其稀少,且多伴生于铅锌矿、煤矿等矿石中。中国是世界上的精制锗生产国,在全世界每年生产的 150 公吨金属中约占 70%,其他主要生产国包括俄罗斯和加拿大。移动速度过快的影响杂质偏析不彻底,纯度不达标:快速移动
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物理性质:具有银灰色金属光泽,条状,梯形截面,性脆,易断裂,硬度 5.0 左右,微导电,属于典型的半导体。其密度为 5.35g/mL,熔点为 937℃,沸点为 2830℃,不溶于盐酸、硝酸和常碱,但溶于 HF、王水和热的 NaOH 溶液中。
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原料预处理原料选择:选用纯度约 5N(99.999%)的粗锗锭或还原锗粉,通常来自 GeCl₄水解、GeO₂氢还原等工艺产出的初级金属锗。表面净化:用混合酸(如 HF+HNO₃)腐蚀去除表面氧化层与油污,再经去离子水清洗、真空烘干,防止杂质
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原料预处理原料选择:选用纯度约 5N(99.999%)的粗锗锭或还原锗粉,通常来自 GeCl₄水解、GeO₂氢还原等工艺产出的初级金属锗。表面净化:用混合酸(如 HF+HNO₃)腐蚀去除表面氧化层与油污,再经去离子水清洗、真空烘干,防止杂质